超高分解能電子ビーム用レジスト CSAR62

特徴 超高分解能電子ビーム用レジスト CSAR62 特徴

CSAR62（AR-P6200）主な特徴

• スピンキャスト膜厚 0.05～1.6μm（6000～1000rpm）
• 高感度
• 10nm以上の最高解像度と非常に高いコントラスト
• 高プロセス安定性、高プラズマエッチング耐性
• リフトオフ構造制作が容易
• アンチケミカルエンハンサ採用
• 安全なアニソール溶媒を採用
• 比較的安価に提供可能

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AR-P6200とZEP520Aの90nm構造分解能比較

ZEP520A（左）とAR-P6200.09(右)においての構造分解能特性比較。（トレンチ幅91nm、ピッチ202nm）AR-P6200のコントラストが優れていることが分かります。

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