超高分解能電子ビーム用レジスト CSAR62

『超高解像、最新型ポジティブ電子ビーム用レジスト』

ドイツALLRESIST製 CSAR62は最高クラスのコントラスト性能と感度の最新電子線用レジストです。
高プラズマエッチング耐性、10nm以上の高解像性能、さらに1ミクロンを超える厚膜にも対応する4種の濃度バリエーションが選択可能です。

特徴 超高分解能電子ビーム用レジスト CSAR62 特徴

CSAR62(AR-P6200)主な特徴

  • スピンキャスト膜厚 0.05~1.6μm(6000~1000rpm)
  • 高感度
  • 10nm以上の最高解像度と非常に高いコントラスト
  • 高プロセス安定性、高プラズマエッチング耐性
  • リフトオフ構造制作が容易
  • アンチケミカルエンハンサ採用
  • 安全なアニソール溶媒を採用
  • 比較的安価に提供可能

AR-P6200とZEP520Aの90nm構造分解能比較

ZEP520A(左)とAR-P6200.09(右)においての構造分解能特性比較。(トレンチ幅91nm、ピッチ202nm)AR-P6200のコントラストが優れていることが分かります。



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