マスクレス露光装置 マイクロライターML family

製品情報

マスクレス露光装置 マイクロライターML family

#

マスクを使わない1μm描画装置では最安値!
少量のパターン試作が手早く可能!

マスクレス露光装置  マイクロライターML family 特長

マスクレスで少量のパターンの試作を手早く可能にするML3 Baby。パターン作製時に、毎回必要なマスク作製の手間を省きます。グレースケール(3D)描画、表面トラッキングオートフォーカスを標準で付属し、ML3 Baby Plusはオートフォーカス・ウエハ検査機能、対物レンズ自動交換機能を、ML3 Mesaは0.6μm分解能を、ML3 Proはそれらに加えてビジュアルマスクアライナー機能、除振台、温度安定化装置を含みます。そして各装置から上位機種へのアップグレードも現場で可能です。

この装置は英国ケンブリッジ大学のキャヴェンディッシュ研究所のラッセル教授が開発した卓上小型(最少モデル,底部面積70cm×60cm)で、手軽に高精度で高速にパターン試作を可能にするDMD方式のマスクレス露光装置です。フォトレジストに直接露光することが可能で、既に世界市場には100台以上が納品済です。DMD方式のマスクレス露光装置の中でコストパフォーマンスに優れた装置です。


メーカーサイト

マスクレス露光装置  マイクロライターML family 仕様

  ML3 Baby ML3 Baby Plus ML3 Mesa ML3 Pro

描画分解能

(ソフトウェアより自動切替可能)

1μm 1μm and 5μm 0.6μm, 1μm, 5μm,

0.6μm, 1μm, 2μm,

5μm ( 0.4μm OPT)

描画範囲 149x149mm 149x149mm 149x149mm 195x195mm
最大ウエハーサイズ 155x155mm 155x155mm 155x155mm 230x230mm
対物レンズ ×10
(×4 デジタルズーム)
×3,×10
(×4 デジタルズーム)
×3,×5,×20
(×4 デジタルズーム)
×3,×5,×10,×20 (X50 OPT)
(×4 デジタルズーム)

描画波長(光源)

(オプション)

405nm

(385,365nm OPT)

405nm

(385,365nm OPT)

405nm

(385,365nm OPT)

385nm

(365nm OPT)

描画速度 50mm2/分@1μm分解能 50mm2/分@1μm分解能180mm2/分@5μm分解能 17mm2/分@0.6μm分解能 50mm2/分@1μm分解能 180mm2/分@5μm分解能 17mm2/分@0.6μm分解能 50mm2/分@1μm分解能 120mm2/分@2μm分解能 180mm2/分@5μm分解能
モーターステージ最小ステップ(X,Y) 15nm 15nm 15nm 4nm
光学表面プロファイラー分解能(Z) 200nm 200nm 100nm
重ね合せ精度 ±2μm (3σ) ±1μm (3σ) ±1μm (3σ) ±0.5μm (3σ)
受け入れ可能
ファイルフォーマット
CIF, GDS2, BMP, TIFF,
JPEG, PNG, GIF
CIF, GDS2, BMP, TIFF,
JPEG, PNG, GIF
CIF, GDS2, BMP, TIFF,
JPEG, PNG, GIF
CIF, GDS2, BMP, TIFF,
JPEG, PNG, GIF

描画速度は典型的なウエハーに描画される平均値です。小さなウエハーに描画する場合は遅くなります。
※デモ機をご用意しております。※ML3 Baby Plus


詳細はお問い合わせください。

動画

現在動画はありません。

カタログダウンロード

Contact Us

お名前【必須】

会社名【必須】

メールアドレス【必須】

郵便番号※ハイフンなし

住所

電話番号【必須】

お問い合わせ内容

電話・メールでも承っております

こちらの製品に関するお問い合わせ、資料請求、見積依頼は
お電話、メールでも承っております。お気軽にご相談ください。

03-5964-6620

info@qd-japan.com

営業時間:9:00〜17:00
(土日祝・年末年始・会社休業日を除く)