小型LED直接描画装置 マイクロライターML family

マスクを使わない描画装置では最安値! 少量のパターン試作が手早く可能!

小型LED直接描画装置 マイクロライターML family 特徴

価格約1100万で、フォトリソではなく、マスクレスで少量のパターンの試作を手早く可能にするMWBaby。 パターン作製時、毎回必要なマスク作製の手間を省きます。この装置は英国ケンブリッジ大学のキャヴェンディッシュ研究所のラッセル教授が開発した卓上小型(最少モデル、底部面積70cm×60cm)で、手軽に高精度で高速(ラスタスキャン方式)にパターン試作を可能にするマスクレスなLED直接描画装置です。フォトレジストに直接LEDで描画することが可能で、既に世界市場には35台以上が納品済です。


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小型LED直接描画装置 マイクロライターML family 仕様

ML3 Baby ML3 Baby Plus ML3 Mesa
ML3 Pro
描画分解能 1μm
1μm and 5μm
0.6μm, 1μm, 5μm,

0.6μm, 1μm, 2μm, 5μm ( 0.4μm OPT)

描画範囲 149x149mm
149x149mm
149x149mm 195x195mm
最大ウエハーサイズ 155x155mm
155x155mm
155x155mm 230x230mm
対物レンズ ×10,(×4 デジタルズーム)
×3,×10(×4 デジタルズーム)
×3,×5,×20(×4 デジタルズーム) ×3,×5,×10,×20(×4 デジタルズーム)
描画波長 405nm LED
405nm LED
405nm LED デュアルライトソース
①385nm LED,
②365nm(OPT)
描画速度 50mm2/分@1μm分解能
50mm2/分@1μm分解能
180mm2/分@5μm分解能

17mm2/分@0.6μm分解能
50mm2/分@1μm分解能
180mm2/分@5μm分解能

17mm2/分@0.6μm分解能
50mm2/分@1μm分解能
120mm2/分@2μm分解能
180mm2/分@5μm分解能
モーターステージ最小ステップ(X,Y) 15nm
15nm
15nm
4nm
光学表面プロファイラー分解能(Z) -NA- 200nm 200nm 100nm
重ね合せ精度 ±2μm (3σ)
±1μm (3σ)
±1μm (3σ) ±0.5μm (3σ)
ソフトウエアフォーマット CIF, BMP, TIFF CIF, BMP, TIFF CIF, BMP, TIFF CIF, BMP, TIFF

描画速度は典型的なウエハーに描画される平均値です。小さなウエハーに描画する場合は遅くなります。


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