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サーマル走査プローブ描画装置 NanoFrazor Explore

最大の特徴は、熱時定数 6μ秒(最高1000℃)の ”Tip” を使用することにより、高分解能描画後すぐに、その場(in-situ測定)1nm分解能の描画検査を実現したことです。その上、検査後その状態ですぐに再描画が可能です。SPL(走査プローブ描画装置)の優位点を活かして ”3D描画” ”グラフェン”へ対応、マーカー無しで ”重ね合わせ精度10nm”、”つなぎ精度10nm”を達成しました。また、レジストとしてPPA(ポリフタルアルデヒド)、分子性ガラスなどを使用し、シリコンや金属への ”3D etch” ”RIE” ”Lift-off”などの標準的なパターン転写も可能である、『サーマル走査プローブ』を使った画期的な次世代リソグラフィーの登場です。

メーカー

SwissLitho

カテゴリ

リソグラフィー

特徴 仕様 NanoFrazor Explore 特徴

  • EBLと遜色ない高速および高精度
  • 3D描画・グラフェンへの対応可能
  • SEMを必要としない同一装置での描画&検査(in-situ)可能
  • シリコンや金属への標準的なパターン転写(3D etch、RIE、Lift-offなど他)可能
  • マーカー無しで重ね合わせ精度10nm、つなぎ精度10nm実現
  • EB調整および超高真空を必要としない簡易操作

メーカーサイト

NanoFrazor Explore 仕様

サーマルプローブtip 材質:シリコン、半径:12nm以下、高さ:500nm、最高温度:1000℃
横描画分解能 15nm ハーフピッチ(シリコン)
3次元直接描画精度 2nm(Z方向)
in-situ 計測 1nm(Z方向)
描画速度 1mm/秒以上
重ね合わせ精度 10nm(マーカー無し)
最大可動エリア
100mm×100mm
寸法 W:1280mm×D:780mm×H:1850mm
重量 650kg(キャスター付)

メーカーサイト

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