サーマル走査プローブ描画装置 NanoFrazor Scholar

電子ビーム描画装置(EBL)の先を行く 次世代リソグラフィーのサーマル走査プローブ描画装置(SPL)の入門機、NanoFrazor Scholar誕生!

特徴 仕様 NanoFrazor Scholar 特徴

  • 分解能ハーフピッチ10nm以下
  • PPA(ポリフタルアルデヒド)などのレジストに、高性能な熱の針を使って直接描画(凹凸)が可能(現像過程必要なし)
  • SEMを必要としない同一装置(in-situ)での描画&検査可能
  • 一般的なパターン転写(3D etch,RIE,Lift-offなど)可能
  • マーカー無しで重ね合わせ精度5nm、つなぎ精度10nm
  • 電子ビームを使わないので、グラフェン・ナノワイヤへの電気的ダメージ無し

メーカーサイト

NanoFrazor Scholar 仕様

項最大サンプルサイズ 20mm × 20mm
電源 100 or 200V (最大1kW)
窒素ガス 接続口 外径1/4 inch

メーカーサイト


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