マスクレス露光装置 マイクロライターML family 特徴
マスクレスで少量のパターンの試作を手早く可能にするML3 Baby。パターン作製時に、毎回必要なマスク作製の手間を省きます。グレースケール(3D)描画、表面トラッキングオートフォーカスを標準で付属し、ML3 Baby Plusはオートフォーカス・ウエハ検査機能、対物レンズ自動交換機能を、ML3 Mesaは0.6μm分解能を、ML3 Proはそれらに加えてビジュアルマスクアライナー機能、除振台、温度安定化装置を含みます。そして各装置から上位機種へのアップグレードも現場で可能です。
この装置は英国ケンブリッジ大学のキャヴェンディッシュ研究所のラッセル教授が開発した卓上小型(最少モデル,底部面積70cm×60cm)で、手軽に高精度で高速にパターン試作を可能にするDMD方式のマスクレス露光装置です。フォトレジストに直接露光することが可能で、既に世界市場には100台以上が納品済です。DMD方式のマスクレス露光装置の中でコストパフォーマンスに優れた装置です。
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マスクレス露光装置 マイクロライターML family 仕様
| ML3 Baby | ML3 Baby Plus | ML3 Mesa | ML3 Pro | |
| 描画分解能 | 1μm | 1μm and 5μm | 0.6μm, 1μm, 5μm, |
0.6μm, 1μm, 2μm, 5μm ( 0.4μm OPT) |
| 描画範囲 | 149x149mm | 149x149mm | 149x149mm | 195x195mm |
| 最大ウエハーサイズ | 155x155mm | 155x155mm | 155x155mm | 230x230mm |
| 対物レンズ | ×10 (×4 デジタルズーム) |
×3,×10 (×4 デジタルズーム) |
×3,×5,×20 (×4 デジタルズーム) |
×3,×5,×10,×20 (X50 OPT) (×4 デジタルズーム) |
|
描画波長（光源） （オプション） |
405nm (385,365nm OPT) |
405nm (385,365nm OPT) |
405nm (385,365nm OPT) |
385nm (365nm OPT) |
| 描画速度 | 50mm2/分＠1μm分解能 | 50mm2/分＠1μm分解能180mm2/分＠5μm分解能 | 17mm2/分＠0.6μm分解能 50mm2/分＠1μm分解能 180mm2/分＠5μm分解能 | 17mm2/分＠0.6μm分解能 50mm2/分＠1μm分解能 120mm2/分＠2μm分解能 180mm2/分＠5μm分解能 |
| モーターステージ最小ステップ(X,Y) | 15nm | 15nm | 15nm | 4nm |
| 光学表面プロファイラー分解能(Z) | 無 | 200nm | 200nm | 100nm |
| 重ね合せ精度 | ±2μm (3σ) | ±1μm (3σ) | ±1μm (3σ) | ±0.5μm (3σ) |
| 受け入れ可能 ファイルフォーマット |
CIF, GDS2, BMP, TIFF, JPEG, PNG, GIF |
CIF, GDS2, BMP, TIFF, JPEG, PNG, GIF |
CIF, GDS2, BMP, TIFF, JPEG, PNG, GIF |
CIF, GDS2, BMP, TIFF, JPEG, PNG, GIF |
描画速度は典型的なウエハーに描画される平均値です。小さなウエハーに描画する場合は遅くなります。
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