マスクレス露光装置マイクロライターML family

製品情報

マスクレス露光装置マイクロライターML family

1台で2つの波長の切り替えができ多種のレジスト対応可能！
少量のパターン試作が手早く可能！

この装置は英国ケンブリッジ大学のキャヴェンディッシュ研究所のラッセル教授が開発した卓上小型(最少モデル,底部面積70cm×60cm)です。

フォトレジストに直接露光することが可能で、DMD方式のマスクレス露光装置の中でコストパフォーマンスに優れた装置です。

ML3 Mesaは0.6μm分解能を、ML3 Proはそれらに加えてオプションで0.4μm分解能を有します。そして各装置から上位機種へのアップグレードも現場で可能です。

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マスクレス露光装置　マイクロライターML family 特長

■マスクを使わない卓上型描画装置

従来のフォトリソグラフィーの手法は専門業者が製造したマスクを使用し露光します。
そのためマスクの設計を変更する度に新たにマスクを作製する必要があります。
ML3シリーズはマスクレスの装置で毎回必要なマスク作製の手間を省きます。
DMD方式を採用することにより手軽に高精度、高速で露光することが可能です。
256レベルのグレースケール露光も可能です。

〇従来のマスクアライナーを使った光描画装置

〇DLPチップ（3cm×3cmに1000×1000の約百万個のDMD）を使ったML3シリーズ

■電動式レンズチェンジャー

通常はレンズ交換にユーザーによる物理的な操作が必要ですが、ML3シリーズでは電動レンズチェンジャーを使用して自動的に行います。異なる対物レンズを使用するDMOの自動レンズチェンジャーは、ユーザーに最も便利で最も柔軟性を提供しております。

■二波長オプション

二波長光源（365nmと405nm）を使用することができ、高解像度とSU-8パターニングの間で最高の柔軟性をユーザーに提供します。 ML3シリーズは市場で唯一、真の二波長光源を使用できるマシンです。

■Virtual Mask Aligner(VMA)オプション

VMAでは露光するパターンが顕微鏡画像の上にリアルタイムで表示されるため、パターンを露光する場所を正確に把握することができます。

■摩擦チャック

DMOは真空チャックを必要としないように設計されており、入念に設計されたフリクションチャックを使用しています。 nitride windowsやその他のデリケートな基板を持つMEMSデバイスが使用可能となります。通常はサンプルの固定に真空を使用しているため、デリケートなものには使用できません。

■高性能レーザー干渉計を標準装備

ML3シリーズはすべて、位置制御に高性能XYレーザー干渉計を採用しています。通常はエンコーダバーのみで、横振れを補正しません。その結果、ML3 シリーズは、ウェーハ全体にわたってより優れたオーバーレイ性能と絶対位置精度を実現します。

■光学式オートフォーカス

本システムでは、オートフォーカスに圧縮空気を使用することはなく、光学式オートフォーカスを標準装備しています。圧縮空気オートフォーカスは、大きなウェハーには良い選択ですが、小型特殊基板や特殊パターンには適しておりません。

■DMO社について

DMOは研究開発出身の会社です。 DMO社の機械とソフトウェア・インターフェースは、研究者や大学の博士課程の学生、ポスドクなどにとって魅力的です。また、高度に湾曲した基板、柔軟な基板、ダイヤモンドアンビルなどの非従来型の物体など、機械で使用できるサンプルの種類に柔軟性があります。非常に使い勝手の良い装置となっており、世界中で170台以上の納入実績があり、日本国内でも研究機関、大学、企業への多数の実績があります。

メーカーサイト

マスクレス露光装置　マイクロライターML family 仕様

	ML3 Baby	ML3 Baby Plus	ML3 Mesa	ML3 Pro
描画分解能 (ソフトウェアより自動切替可能）	1μm	1μm and 5μm	0.6μm, 1μm, 5μm,	0.6μm, 1μm, 2μm, 5μm ( 0.4μm OPT)
描画範囲	149x149mm			195x195mm
最大ウエハーサイズ	155x155mm			230x230mm
対物レンズ	×10 (×4 デジタルズーム)	×3,×10 (×4 デジタルズーム)	×3,×5,×20 (×4 デジタルズーム)	×3,×5,×10,×20 (X50 OPT) (×4 デジタルズーム)
描画波長（光源）（オプション）	405nm (385,365nm OPT)			385nm (365nm OPT)


描画速度	50mm²/分＠1μm分解能	50mm²/分＠1μm分解能,180mm2/分＠5μm分解能	17mm²/分＠0.6μm分解能,50mm2/分＠1μm分解能,180mm2/分＠5μm分解能	17mm2/分＠0.6μm分解能,50mm2/分＠1μm分解能, 120mm2/分＠2μm分解能, 180mm2/分＠5μm分解能



モーターステージ最小ステップ(X,Y)	15nm			4nm
光学表面プロファイラー分解能(Z)	無	200nm		100nm
重ね合せ精度	±2μm (3σ)	±1μm (3σ)		±0.5μm (3σ)
受け入れ可能ファイルフォーマット	CIF, GDS2, BMP, TIFF,JPEG, PNG, GIF