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電子線レジスト・フォトレジスト・関連材料

ドイツALLRESIST社は最高クラスのコントラスト性能・感度を持ち合わせた最新の電子線レジスト「CSAR62」など各種電子線レジスト、フォトレジスト、リソグラフィー関連材料を開発、製造しております。
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ラインナップ一覧

E-Beam Resist AR-N 7500 series

 高解像度、プロセス安定(非化学増幅)レジスト、Mix &Matchプロセス用、120℃まで安定

E-Beam Resist AR-N 7520 new series

 高解像度・高感度レジスト、Mix &Matchに対応、140℃までの熱安定性

E-Beam Resist AR-N 7520 series

 Mix &Matchプロセス用高解像度レジスト、高精度エッジ用、140℃までの熱安定性

E-Beam Resist AR-N 7700 series

 集積回路製造用高精細電子線レジスト

E-Beam Resist AR-N 7720 series

 回折光学系製造用高分解能電子ビームレジスト

E-Beam Resist SX AR-N 8200 series (Medusa 82)

 実験用サンプル / 特注品

E-Beam Resist SX AR-N 8250 series (Medusa 82)

 実験用サンプル / 特注品

E-Beam Resist AR-P 617 series

 最高解像度ナノメートルリソグラフィー用レジスト

E-Beam Resist AR-P 6200 series (CSAR 62)

 集積回路製造・マスク用高コントラスト電子線レジスト

E-Beam Resist AR-P 632 series

 集積回路製造・マスク用PMMAレジストシリーズ50K~950K

E-Beam Resist AR-P 639 series

 集積回路製造・マスク用PMMAレジストシリーズ50K~950K

E-Beam Resist AR-P 641 series

 集積回路製造・マスク用PMMAレジストシリーズ50K~950K

E-Beam Resist AR-P 642 series

 集積回路製造・マスク用PMMAレジストシリーズ50K~950K

E-Beam Resist AR-P 649 series

 集積回路製造・マスク用PMMAレジストシリーズ50K~950K

E-Beam Resist AR-P 6510 series

 微細部品製造用厚膜ポジ型レジスト

E-Beam Resist AR-P 661 series

 集積回路製造・マスク用PMMAレジストシリーズ50K~950K

E-Beam Resist AR-P 662 series

 集積回路製造・マスク用PMMAレジストシリーズ50K~950K

E-Beam Resist AR-P 669 series

 集積回路製造・マスク用PMMAレジストシリーズ50K~950K

E-Beam Resist AR-P 671 series

 集積回路製造・マスク用PMMAレジストシリーズ50K~950K

E-Beam Resist AR-P 672 series

 集積回路製造・マスク用PMMAレジストシリーズ50K~950K

E-Beam Resist AR-P 679 series

 集積回路製造・マスク用PMMAレジストシリーズ50K~950K

E-Beam Resist AR-P 8100 series (Phoenix 81)

 集積回路製造・ホログラフィック構造用の高コントラスト熱可塑性レジスト

Photoresist AR-N 2210

 様々な用途ですぐに使えるポジ型・ネガ型スプレーレジスト

Photoresist AR-N 2220

 様々な用途ですぐに使えるポジ型・ネガ型スプレーレジスト

Photoresist AR-N 4340 (CAR)

 集積回路製造用高感度ネガ型レジスト

Photoresist AR-N 4400-05 (CAR 44)

 電解めっき、マイクロシステム技術、LIGA用厚膜ネガレジスト(20µm以下)

Photoresist AR-N 4400-10 (CAR 44)

 電解めっき、マイクロシステム技術、LIGA用厚膜ネガレジスト(20µm以下)

Photoresist AR-N 4400-25 (CAR 44)

 電解めっき、マイクロシステム技術、LIGA用厚膜ネガレジスト(50µm以上)

Photoresist AR-N 4400-50 (CAR 44)

 電解めっき、マイクロシステム技術、LIGA用厚膜ネガレジスト(50µm以上)

Photoresist AR-N 4450-10 T (CAR 44)

 電解めっき、マイクロシステム技術、LIGA用厚膜ネガレジスト(50µm以上)

Photoresist AR-N 4600 series (Atlas 46)

 電解めっき、マイクロシステム技術、LIGA用厚膜ネガレジスト(20µm以下)

Photoresist AR-P 1210

 様々な用途ですぐに使えるポジ型・ネガ型スプレーレジスト

Photoresist AR-P 1220

 様々な用途ですぐに使えるポジ型・ネガ型スプレーレジスト

Photoresist AR-P 1230

 様々な用途ですぐに使えるポジ型・ネガ型スプレーレジスト

Photoresist AR-P 3110

 マスクや微細分割の製造に適した密着性向上型ポジ型レジスト

Photoresist AR-P 3120

 マスクや微細分割の製造に適した密着性向上型ポジ型レジスト

Photoresist AR-P 3170

 マスクや微細分割の製造に適した密着性向上型ポジ型レジスト

Photoresist AR-P 3210

 電解めっきおよびマイクロシステム技術用厚膜ポジ型レジスト

Photoresist AR-P 3220

 電解めっきおよびマイクロシステム技術用厚膜ポジ型レジスト

Photoresist AR-P 3250

 電解めっきおよびマイクロシステム技術用厚膜ポジ型レジスト

Photoresist AR-P 3510

 集積回路製造用高感度ポジトーン標準レジスト

Photoresist AR-P 3510 T

 集積回路製造用高感度ポジトーン標準レジスト

Photoresist AR-P 3540

 集積回路製造用高感度ポジトーン標準レジスト

Photoresist AR-P 3540 T

 集積回路製造用高感度ポジトーン標準レジスト

Photoresist AR-P 3740

 集積回路製造用高感度ポジトーン標準レジスト

Photoresist AR-P 5320

 蒸着サンプル作成用高感度ポジトーンレジスト

Photoresist AR-P 5350

 蒸着サンプル作成用高感度ポジトーンレジスト

Photoresist SX AR-P 3500/8

 300 ℃までの高温用ポジ型フォトレジスト

Protective Coating AR-PC 5040

 シリコンの深層構造製造のための前面エッチング時のウェーハ裏面保護

Protective Coating AR-PC 5090.02 (Electra 92)

 非ノボラック系電子ビームレジスト用導電性保護膜、絶縁基板上の電子ビーム電荷放散用トップ層用

Protective Coating AR-PC 5091.02 (Electra 92)

 絶縁基板上の電子ビーム電荷放散用トップ層用

Protective Coating SX AR-PC 5000/41

 ウェーハ裏面保護用の耐KOH、耐HF保護膜

Protective Coatings AR-PC 504

 シリコンの深層構造製造のための前面エッチング時のウェーハ裏面保護

Bottom Resist AR-BR 5460

 光学的透明で耐熱性構造のためのポジ型・ネガ型レジスト

Bottom Resist AR-BR 5480

 光学的透明で耐熱性構造のためのポジ型・ネガ型レジスト

Developer AR 300-26

 ノボラック系電子線レジストおよびフォトレジスト膜用現像液

Developer AR 300-35

 ノボラック系電子線レジストおよびフォトレジスト膜用現像液

Developer AR 300-44

 ノボラック系電子線レジストおよびフォトレジスト膜用現像液

Developer AR 300-46

 ノボラック系電子線レジストおよびフォトレジスト膜用現像液

Developer AR 300-47

 ノボラック系電子線レジストおよびフォトレジスト膜用現像液

Developer AR 300-475

 ノボラック系電子線レジストおよびフォトレジスト膜用現像液

Developer AR 600-50

 電子線レジスト膜用現像液

Developer AR 600-546

 電子線レジスト膜用現像液

Developer AR 600-548

 電子線レジスト膜用現像液

Developer AR 600-549

 電子線レジスト膜用現像液

Developer AR 600-55

 電子線レジスト膜用現像液

Developer AR 600-56

 電子線レジスト膜用現像液

Remover AR 300-70

 テンパリングされた電子線レジストやフォトレジスト膜用剥離液

Remover AR 300-72

 テンパリングされた電子線レジストやフォトレジスト膜用剥離液

Remover AR 300-73

 テンパリングされた電子線レジストやフォトレジスト膜用剥離液

Remover AR 300-76

 テンパリングされた電子線レジストやフォトレジスト膜用剥離液

Remover AR 600-71

 テンパリングされた電子線レジストやフォトレジスト膜用剥離液

Adhesion Promoter AR 300-80 new

 電子線レジスト、フォトレジストの接着力向上用

HMDS adhesion promoter

 電子線レジスト、フォトレジストの接着力向上用

Thinner AR 300-12

 電子線レジストおよびフォトレジストの膜厚調整用

Thinner AR 600-02

 電子線レジストおよびフォトレジストの膜厚調整用

Thinner AR 600-07

 電子線レジストおよびフォトレジストの膜厚調整用

Thinner AR 600-09

 電子線レジストおよびフォトレジストの膜厚調整用

Stopper AR 600-60

 電子線レジスト膜の現像液用ストッパー

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